Essiccatore di bottiglie usate anno 2012 12000 bph La matrice per asciugabottiglie usata anno 2012 12000 bph fornisce una soluzione lineare di asciugatura per bottiglie in linee di imbottigliamento ad alta velocità. Il produttore italiano Matrix ha costruito questo modello nel 2012 e lo ha chiamato Dryer 1 neck. Il sistema, quindi, utilizza un flusso d'aria mirato per asciugare efficacemente l'area del collo di ogni bottiglia. Processa fino a 12.000 bottiglie all'ora, il che consente un'integrazione fluida nei sistemi di imbottigliamento automatici. Configurazione meccanica e caratteristiche operative Questo sistema lineare guida le bottiglie attraverso un punto d'ingresso unico, garantendo un flusso preciso
Macchina plastificatrice / Film su foglio Creare la matrice Modello SH-460 Anni 2010? Dimensione massima 455 mm Dettagli: laminazione a singolo o doppio lato Produzione 1,6 metri al minuto Dettagli inclusi 1 rotolo di materiale satinato lamiantion Disponibile direttamente
Diametro massimo del pezzo da lavoro: 254 mm Distanza massima tra i centri: 1066 mm Lunghezza massima della levigatura: 1041 mm Capacità massima del mandrino per colletti: 38 mm Dimensioni della ruota abrasiva standard: 408x25x205 mm Limiti della rotazione della testata di macinazione: 45 gradi Taper centrali: Sea #4 Passo del filetto: 0,42 – 305 mm Correzione massima dell'intonazione: 0,1 mm su 100 mm di lunghezza Retromarciamento regolabile: 0-5mm Numero di velocità di rotazione della testa di levigatura: 20 Intervallo di velocità della slitta del pezzo: 1/3 – 60 giri/min Velocità in back-run: 25,4; 80 giri/min o velocità di lavoro Capacità del motore slittante del pezzo: 0,75 HP Capacità del motore della testa di levigatura: 3,5/1,25 HP Massima obliquità: 1:12 Limiti di larghezza della ruota abrasiva: 9,5–75 mm Intervallo di velocità della mola abrasiva ...
Produttore: MatriX Modello: X3 Anno di costruzione: 2015 Condizione : Eccellente Accessori ingresso Alimentatore alimentatore di uscita Scopri di più qui - / Contattaci all'indirizzo -
Sistemi Matrix 105 Sistema Uno Spogliarellista Matrix 105 plasma Asher Plasma descum apparecchiature per semiconduttori Applicazioni Strippaggio di fotoresist Sistema a matrice uno L'apparecchiatura per semiconduttori Matrix System One Stripper plasma Asher Plasma descum rappresenta lo standard industriale nella rimozione di fotoresist a wafer singolo e il pilastro della famiglia System One di grande successo. Sviluppata in collaborazione con molti dei principali produttori mondiali di circuiti integrati, l'apparecchiatura per semiconduttori Matrix System One Stripper plasma Asher Plasma è stata progettata per garantire prestazioni e costi di proprietà ottimali. Trovare
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Dimensioni: 550 mm Attrezzature: Larghezza massima del foglio: 550 mm Velocità massima: 10 m/min Larghezza massima del film: 500 mm Laminazione: unilaterale Pressione: meccanica, regolabile Materiale: da 135 g/qm2 Diametro del nucleo delle lamine: 76 mm:
