GALACTIC GAVA 500 CAPVD PVDスパッタリング機

GALACTIC GAVA 500 CAPVD PVD スパッタリングマシンは、2022 年にポーランドで製造されました。この非常に技術的に高度なシステムは、とりわけ、切削工具、金型、パンチに、耐摩耗性と化学薬品に対する高い耐性を備えた超耐久性のあるコーティングをコーティングするように設計されています。使用されるCAPVD(Cathodic Arc Physical Bapour Deposition)法は、標準的なPVD法と比較して、良好な堆積速度と厚さ(± 5 nm)で高密度で付着性の高いコーティングを製造できます。

このプロセスでは、作業チャンバーに配置されたソース(カソード)からの原子が電気アークを使用して気化されます。その後、これらの原子はワークピースの表面に移動して堆積し、薄いコーティングを作成します。GAVA 500 PVDスパッタリングマシンは、最高の技術仕様の必要なすべてのコンポーネントを装備し、最高の業界標準を満たしています。

GALACTIC GAVA 500 CAPVD PVDスパッタリングマシンの技術仕様
●PLCコントローラ:三菱 A1S1
- コーティングの種類:TiN、TiCN、TiAlN、TiAlNEX、CrN、ZrN、CrAlN、TiSiAlN、AlCrN、ZrO、CrCO
- 真空チャンバー寸法(直径×高さ):約600×600mm
- 最大ワーク重量:500 kg
- 最大真空度:5x 6-10 mbar
- CAPVDエバポレーター(2個入)
- ルーツポンプ:ライボルト501 S(2個入)
- ルーツポンプ容量:4040 m3 / h
- ルーツポンプ圧力:3-10 mbar
- ターボ分子ポンプ:LEYBOLD MAGiNTEGRA
- ターボ分子ポンプ容量:2000 L / s
- ターボ分子ポンプ圧力:6-10 mbar
-コンプレッサー
- 冷却装置(チラー)
●サテライトグリップ(18個)
- プロセスガス分配:センサー付き質量流量計
- 温度制御:K型熱電対
- GALACTIC GAVA 500 CAPVDマシンの電源:3x 400 V;50ヘルツ