PVD 溅射机 GALACTIC GAVA 500 CAPVD

GALACTIC GAVA 500 CAPVD PVD 溅射机于 2022 年在波兰制造。这种技术极其先进的系统旨在为切削� ��具、模具和冲头等涂覆具有高度耐磨性和耐化学试� �性的超耐用涂层。与标准 PVD 方法相比，所使用的 CAPVD（阴极电弧物理气相沉积）方法可以生产出具有� �好沉积速率和厚度 （± 5 nm） 的高密度和粘附涂层。

在此过程中，来自放置在工作腔中的源（阴极）的原� ��通过电弧蒸发。然后，这些原子转移并沉积到工件� �面，形成薄涂层。GAVA 500 PVD 溅射机配备了最佳技术规格的所有必要组件，并符合� ��高的行业标准。

GALACTIC GAVA 500 CAPVD PVD 溅射机的技术规格
- PLC 控制器：三菱 A1S1
- 涂层类型：TiN、TiCN、TiAlN、TiAlNEX、CrN、ZrN、CrAlN、TiSi AlN、AlCrN、ZrO、CrCO
- 真空室尺寸（直径 x 高）：⌀600 x 600 毫米
- 最大工件重量：500 kg
- 最大真空度：5x 6-10 mbar
- CAPVD 蒸发器（2 个）
- M51251405 罗茨泵：LEYBOLD 501 M51251405 S（2 个）
- 罗茨泵处理量：4040 m3/h
- 罗茨泵压力：3-10 mbar
- 涡轮分子泵：LEYBOLD MAGiNTEGRA
- 涡轮分子泵容量：2000 l/s
- 涡轮分子泵压力：6-10 mbar
-压缩机
- 冷却装置（冷却器）
- 卫星把手（18 件）
- 过程气体分配：带传感器的质量流量计
- 温度控制：K 型热电偶
- GALACTIC GAVA 500 CAPVD 机器的电源：3x 400 V;50 赫兹
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